Bei diesem Prüfverfahren werden Proben mittels Elektronenstrahl rasterförmig beschossen. Durch das Abrastern der Proben werden Elektronen freigesetzt, welche als SE (sekundär Elektronen) und als BSD (Rückstreu Elektronen) auf den Detektor treffen. Aus diesen Informationen wird daraus folgend ein Bild erzeugt. Mit diesem Verfahren können selbst Strukturen mit mehreren Nanometer Größe dargestellt werden, was mit einem Lichtmikroskop physikalisch nicht möglich ist.